IT 之家 5 月 29 日音书，科技媒体 patentlyapple 昨日（5 月 28 日）发布博文，报谈称苹果公司获批一项新专利，波及下一代 Face ID 技艺，从衍射光学元件（DOE）转向更先进的"超名义光学元件"（MOE）。

IT 之家征引博文先容，苹果公司现存 Face ID 依赖衍射光学元件（DOE），生成点状照明图案，用于计算区域的 3D 映射。

传统结构光投影模组（Structured light projectors）继续需要多个光学元件，包括 DOE 和准直透镜，来分割光束并投射点状图案。尽管这类投影模组已填塞工致，可镶嵌智高手机，但仍有进一步收缩的需求。

而专利中刻毒了超名义光学元件（MOE）策画决策，在单一扁平元件中，集成光束分割与准直功能，不仅能收缩投影模组体积，镌汰了坐蓐老本，还简化了拼装经由，减少了制造差错的影响。

以上图源：patentlyapple

新专利还揭示，MOE 技艺能同期转机投影模组的光轴歪斜角度，使其与录像头的视线（FOV）更好地类似。这种策画确保点状图案掩饰录像头视线，普及 3D 映射的精确度。此外，配置可通过摈弃器轮流激活点状照明和泛光照明云开体育，活泼合适不同场景需求。